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公开(公告)号：CN118983210A
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202411037898.X
申请日：2024-07-30
申请人： 上海华力集成电路制造有限公司
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/317 , H01J37/06
摘要： 本发明涉及半导体技术领域，提供了一种电子喷淋装置及离子注入设备，所述电子喷淋装置包括：电子发生器和阻挡单元；所述电子发生器用于产生电子，所述电子发生器具有一电子发射口，所述电子发射口与工艺腔连通用于供电子进入工艺腔中；所述阻挡单元设置于所述工艺腔的内壁，所述工艺腔中具有用于放置晶圆的放置位；沿离子束的照射方向，所述阻挡单元位于所述电子发射口与所述放置位之间；沿第一方向，所述阻挡单元位于所述电子发射口与所述离子束之间，所述第一方向为由电子发射口垂直指向离子束的方向。如此配置，本发明的电子喷淋装置，可对离子束进行中和，且可保证晶圆表面的电荷分布均匀。
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公开(公告)号：CN118843917A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380026056.1
申请日：2023-03-01
申请人： 瑞尼斯豪公司
发明人： 维克托·戈登·斯廷普森 , J·R·帕克 , 弗朗西斯·赫丁 , R·A·哈泽尔
IPC分类号： H01J37/02 , G01N23/2254 , H01J37/244
摘要： 一种用于与分析设备一起使用的光学设备，该分析设备被布置成将分析束沿分析轴线朝向样品室内的样品投射。光学设备可以包括安装在臂上的至少两个收集光学器件，该臂通过样品室中的端口可插入或插入样品室中。可以设置有密封元件，该密封元件用于密封端口，该密封元件包括窗口。臂可以可插入或插入样品室中以定位至少两个收集光学器件，该至少两个收集光学器件用于将从样品上的点散射或产生的光分别引导出窗口。
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公开(公告)号：CN118841301A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202410504468.8
申请日：2024-04-25
申请人： FEI 公司
发明人： J·维尔科夫斯基 , R·T·J·P·格尔茨 , M·梅利查尔
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/02 , G01N23/2251
摘要： 与激光烧蚀或离子束铣削相关联的表面污染和碎屑沉积是通过将被引导到工件的流与合适的真空压力下的抽吸结合来减少的。通常对真空压力进行选择，使得任何污染物或碎屑具有相对短的平均自由程，以避免在真空腔室中的远处表面上积聚。闸板可用于在处理期间屏蔽带电粒子束光学柱的部分。在与相对短的MFP相关联的真空压力下的处理可与在与相对长的MFP相关联的真空压力下的处理结合，以提供粗略和精细的铣削或烧蚀。
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公开(公告)号：CN118471776A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410574541.9
申请日：2024-05-10
申请人： 浙江中科尚弘离子装备工程有限公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/02 , H01L21/265 , H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种离子注入机中的晶圆表面电荷效应抑制装置，包括电子浴控制系统和电子浴发生器，电子浴控制系统发送工作参数至电子浴发生器，电子浴发生器根据工作参数调整向离子束发射的电子浴浓度，以中和到达晶圆的离子束中的带正电荷离子，在晶圆的周围设有电荷收集板，电荷收集板与晶圆所接受的离子束密度是一致的，且电荷收集板与晶圆的电位变化相同，电荷收集板的电位信号输出端与电位比较器连接，在电位比较器内与设有标准电位值，电位比较器将电荷收集板发送的当前电位值与标准电位值进行比较，并将差值发送至放大器放大后，反馈至电子浴控制系统，电子浴控制系统根据反馈的差值调整发送给电子浴发生器的工作参数，以确保电荷中和效果。
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公开(公告)号：CN118380302A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410822315.8
申请日：2024-06-25
申请人： 青岛四方思锐智能技术有限公司
发明人： 刘元龙
IPC分类号： H01J37/244 , G01R31/34 , H01J37/02 , H05K7/20
摘要： 本申请提供了一种故障检测电路、离子注入机散热系统，应用于故障检测技术领域，该故障检测电路包括反向输入模块、反向抑制处理模块、信号输出模块，通过反向输入模块获取预设传感器输出的感应信号的波形反转后的第一处理信号，通过反向抑制处理模块对第一处理信号进行滤波、放大及反向波形抑制等预处理，得到第二处理信号，并从感应信号的反转波形信号中提取出有效波形信号，利用信号输出模块基于该第二处理信号判断风扇电机运转是否正常，若否，则输出预警信号。选用本申请提供的故障检测电路，可实现对离子注入机散热系统的性能进行检测，从而保障离子注入机散热系统正常地对离子注入机进行散热处理，进一步保障离子注入机的性能与寿命。
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公开(公告)号：CN118266055A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280074777.5
申请日：2022-10-11
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 本发明提供了一种用于向样品投射带电粒子束的带电粒子评估系统。该系统包括：被配置为保持样品的样品保持器；带电粒子光学系统，其被配置为将来自带电粒子源的带电粒子束向下游朝样品投射并且包括清洁目标；以及清洁装置。清洁装置被配置为向清洁目标供应入射在清洁目标上的清洁流中的清洁介质，使得清洁流从清洁目标的下游接近清洁目标，并且在清洁目标处或附近激发清洁介质，使得清洁介质清洁清洁目标的表面的至少一部分。
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公开(公告)号：CN117836892A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280054925.7
申请日：2022-06-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·斯洛特
IPC分类号： H01J37/02
摘要： 一种用于向样品投射带电粒子多射束的方法，包括：使用控制透镜阵列来操纵带电粒子多射束的相应子射束，该控制透镜阵列包括用于相应子射束的多个控制透镜；控制控制透镜阵列以操纵子射束，使得子射束由射束成形孔径阵列的相应孔径成形，使得小于阈值电流的每个子射束的带电粒子通过射束成形孔径阵列的相应孔径，控制透镜阵列的下游包括用于相应子射束的多个孔径；以及控制控制透镜阵列以操纵子射束，使得至少为阈值电流的子射束的至少一部分通过射束成形孔径阵列的相应孔径。
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公开(公告)号：CN114906617B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210485796.9
申请日：2022-05-06
申请人： 浙江中科尚弘离子装备工程有限公司
IPC分类号： B65G49/06 , H01J37/317 , H01J37/02
摘要： 本发明公开了一种多片大尺寸玻璃基板离子注入直线传送装置，其技术方案要点是：一种多片大尺寸玻璃基板离子注入直线传送装置，其特征在于：包括若干依次呈嵌套设置的主动传送轴管、若干依次呈嵌套设置的从动传送轴管、若干分别固定于主动传送轴管的两端位置的主动轮、若干分别固定于从动传送轴管的从动轮、设置于对应主动轮与从动轮之间并用于装载大尺寸玻璃基板的传送链、驱动若干传送链同步移动的驱动机构，若干传送链呈平行设置。本发明达到可以在真空取样室内可连续对多个大尺寸玻璃基板注入离子，避免真空取样室反复抽真空，提升离子注入效率，降低能源损耗。
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公开(公告)号：CN117672792A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202311779092.3
申请日：2023-12-22
申请人： 芯嵛半导体(上海)有限公司
发明人： 陈炯
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/02 , H01L21/265 , H01J37/20 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/677 , F25D1/02
摘要： 本发明涉及一种双扫描头的扫描机器人、离子注入设备及方法，属于半导体离子注入工艺技术领域，其中双扫描头的扫描机器人包括有机械臂，机械臂的一端与工艺腔模块相连接，机械臂的另一端为转动部，在转动部的一侧依次设置有第一冷却装置和第一扫描头，在转动部的另一侧依次设置有第二冷却装置和第二扫描头。本方案独创地在一个扫描机器人上设置两个扫描头，进而交替地对两个晶圆进行扫描，从而能够连续、高效地进行大束流大电流离子注入工艺，在注入过程中保证晶圆及扫描头温度不会过高，克服了现有技术冷却功率的限制。
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