发明授权
CN1264065C 光刻装置和器件制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光刻装置和器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200410043180.8申请日： 2004-05-13
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公开(公告)号： CN1264065C公开(公告)日： 2006-07-12
- 发明人: B·斯特雷克 , J·J·M·巴塞曼斯 , H·H·M·科西 , A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , J·C·H·穆肯斯 , G·P·M·范努恩 , K·西蒙 , B·A·斯拉赫克 , A·斯特拉艾杰 , J·-G·C·范德图恩 , M·豪克斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 肖春京
- 优先权： 03252955.4 2003.05.13 EP; 03256643.2 2003.10.22 EP
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/00
摘要：
一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。
公开/授权文献
- CN1550905A 光刻装置和器件制造方法 公开/授权日：2004-12-01