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公开(公告)号：CN102221790B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201110166687.2
申请日：2009-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： C·J·G·范德敦根 , N·F·寇普拉斯 , M·H·A·里恩德尔 , P·M·M·里伯艾格特斯 , J·C·H·穆肯斯 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , M·贝克尔斯 , R·莫尔曼 , C·D·格乌斯塔 , D·M·H·菲利普斯 , R·J·P·沃黑斯 , P·马尔德 , E·范维利特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种浸没式光刻设备，包括：被配置用于支撑衬底的衬底台；和流体处理系统，所述流体处理系统位于衬底台和/或衬底上方，所述流体处理系统包括具有多孔构件的抽取器，所述多孔构件具有表面，所述表面具有至少一个相对于衬底和/或衬底台倾斜的区域，使得在所述多孔构件的所述表面与面对所述流体处理系统的衬底和/或衬底台的表面之间的距离从径向的最里面的位置至径向的最外面的位置增加。
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公开(公告)号：CN101916050B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010249792.8
申请日：2005-06-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
摘要： 光刻装置和器件制造方法本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN101470360B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN200910002111.5
申请日：2003-11-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
摘要： 一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。
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公开(公告)号：CN1782886B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200510128823.3
申请日：2005-12-01
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 光刻装置以及器件制造方法公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1713075A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510079476.X
申请日：2005-06-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
摘要： 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN1591197A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410074855.5
申请日：2004-08-30
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·R·鲁普斯特拉 , M·M·T·M·迪里奇斯 , J·C·M·贾斯佩 , H·J·M·迈杰 , U·米坎 , J·C·H·穆肯斯 , M·里普森 , T·尤特迪克 , J·J·M·巴塞曼斯
CPC分类号： G03F7/70966 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , Y10S430/162
摘要： 本发明公开一种使用浸液的光刻投影装置，所述浸液位于该投影系统的最后元件和基底W之间。公开多种用于保护该投影系统、基底台和液体保持系统的部件的方法。这些方法包括在该投影系统的最后元件(20)上设置保护层，以及在该部件的上游设置牺牲保护体。还公开了由CaF2制成的由两个部件构成的最后光学元件。
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公开(公告)号：CN1501175A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN200310123328.4
申请日：2003-11-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要： 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。
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公开(公告)号：CN102226869A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201110166731.X
申请日：2009-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： C·J·G·范德敦根 , N·F·寇普拉斯 , M·H·A·里恩德尔 , P·M·M·里伯艾格特斯 , J·C·H·穆肯斯 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , M·贝克尔斯 , R·莫尔曼 , C·D·格乌斯塔 , D·M·H·菲利普斯 , R·J·P·沃黑斯 , P·马尔德 , E·范维利特
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种器件制造方法，所述方法包括步骤：把浸没液体限制在空间中，所述空间被限定在投影系统、衬底和/或衬底台、流体处理结构、以及在所述流体处理结构与所述衬底和/或所述衬底台之间延伸的浸没液体的弯月面之间，所述投影系统被设置用于把图案化的辐射束投影到在衬底的目标部分的像场上，以及所述衬底台被设置用于支撑所述衬底；和引起所述投影系统与衬底和/或衬底台之间的相对运动；调节成像的参数以设置形成在像场外部的任何气泡。
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公开(公告)号：CN102147574A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
摘要： 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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公开(公告)号：CN101382738B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200810168966.0
申请日：2003-11-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·洛夫 , A·T·A·M·德克森 , C·A·胡根达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , T·M·默德曼 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
摘要： 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统。其中所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置并且包括压力释放装置。
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