发明公开
- 专利标题: 静电吸盘
- 专利标题(英): Electrostatic sucker
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申请号: CN200410096922.3申请日: 2004-12-06
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公开(公告)号: CN1624892A公开(公告)日: 2005-06-08
- 发明人: 西本伸也 , 中山博之 , 木村英利
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳; 邸万杰
- 优先权: 2003-408224 2003.12.05 JP
- 主分类号: H01L21/68
- IPC分类号: H01L21/68 ; B23Q3/15
摘要:
本发明涉及一种使用静电力吸附晶片W的静电吸盘16,静电吸盘16具有与晶片W相接触的多个突起部16C,并且,由包含平均粒径为1~2μm的氧化铝结晶颗粒的陶瓷介电体16A构成突起部16,同时,使突起部16C的与晶片W接触的接触面形成为依存于粒径的表面粗糙度Ra 0.2~0.3μm。由此,消除专利文献1中所记述的静电吸盘的由升降杆使晶片W跳起的顾虑。而且,解决专利文献2中所记述的静电吸盘的难以对晶片W面内温度均匀地进行控制的问题。
公开/授权文献
- CN1310303C 静电吸盘 公开/授权日:2007-04-11