发明公开
- 专利标题: 磁逻辑装置及其制造和操作方法
- 专利标题(英): Magnetic logic device and methods of manufacturing and operating the same
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申请号: CN200510135660.1申请日: 2005-12-27
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公开(公告)号: CN1805166A公开(公告)日: 2006-07-19
- 发明人: 金成栋 , 金恩植 , 丁柱焕 , 高亨守 , 闵桐基 , 朴弘植 , 洪承范
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 郭鸿禧; 李友佳
- 优先权: 10-2004-0117010 2004.12.30 KR
- 主分类号: H01L43/08
- IPC分类号: H01L43/08 ; H01L43/12 ; H01L27/22 ; G11C11/16 ; G11C11/15
摘要:
提供了一种MLD(磁逻辑装置)以及制造和操作该磁逻辑装置的方法。所述MLD包括:第一互连部分;下磁层,形成在所述第一互连部分上,所述下磁层的磁方向被固定为预定方向;非磁层,形成在所述下磁层上;上磁层,形成在所述非磁层上,所述上磁层的磁方向与所述下磁层的磁方向平行或反向平行;第二互连部分,形成在所述上磁层上。第一电流源置于第一互连部分的一端和第二互连部分的一端之间,第二电流源置于第一互连部分的另一端和第二互连部分的另一端之间。
公开/授权文献
- CN100521275C 磁逻辑装置及其制造和操作方法 公开/授权日:2009-07-29
IPC分类: