发明授权
CN1812071B 基板处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 基板处理装置
- 专利标题(英): Substrates treating device
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申请号: CN200610051362.9申请日: 2006-01-05
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公开(公告)号: CN1812071B公开(公告)日: 2011-08-03
- 发明人: 小田裕史 , 川根旬平
- 申请人: 大日本网目版制造株式会社
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 大日本网目版制造株式会社
- 当前专利权人: 大日本网目版制造株式会社
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
- 代理商 高龙鑫; 王玉双
- 优先权: 2005-009175 2005.01.17 JP
- 主分类号: H01L21/677
- IPC分类号: H01L21/677 ; H01L21/00 ; B08B3/02 ; B65G49/06
摘要:
本发明提供一种基板处理装置,用于减少设置所必需的占地面积,可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板,降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向,通过该倾斜搬送部(49),在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下,将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30),使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板,以原姿态在与第一处理部20相反方向上进行搬送和处理。
公开/授权文献
- CN1812071A 基板处理装置 公开/授权日:2006-08-02
IPC分类: