发明公开
- 专利标题： 用于角分解光谱光刻表征的方法与设备
- 专利标题（英）： Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterisation
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申请号： CN200510091733.1申请日： 2005-08-15
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公开(公告)号： CN1916603A公开(公告)日： 2007-02-21
- 发明人: A·J·登博夫 , A·J·布里克 , Y·J·L·M·范多梅伦 , M·杜萨 , A·G·M·基尔斯 , P·F·鲁尔曼恩 , H·P·M·佩勒曼斯 , M·范德沙尔 , C·D·格劳斯特拉 , M·G·M·范克拉亚
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 王岳; 王忠忠
- 优先权： 10/918742 2004.08.16 US
- 主分类号： G01N21/49
- IPC分类号： G01N21/49 ; G01N22/00 ; H01L21/66 ; G03F7/00
摘要：
一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法，所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化，并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。
公开/授权文献
- CN1916603B 用于角分解光谱光刻表征的方法与设备 公开/授权日：2010-11-24
