公开(公告)号：CN1916603A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200510091733.1

申请日：2005-08-15

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·登博夫 ,  A·J·布里克 ,  Y·J·L·M·范多梅伦 ,  M·杜萨 ,  A·G·M·基尔斯 ,  P·F·鲁尔曼恩 ,  H·P·M·佩勒曼斯 ,  M·范德沙尔 ,  C·D·格劳斯特拉 ,  M·G·M·范克拉亚

IPC分类号： G01N21/49 ,  G01N22/00 ,  H01L21/66 ,  G03F7/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： 一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法，所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化，并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。

公开(公告)号：CN105980932B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201480075272.6

申请日：2014-11-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： 种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括:照射目标,该目标具有交替的第和第二结构,其中第二结构的形式是依赖于焦距的,而第结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性;以及检测由目标重定向的辐射,以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量,其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。种用于形成这种目标的相关联的掩模和种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN108931891B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201810681219.0

申请日：2014-11-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本公开的实施例涉及检查方法、光刻设备、掩模以及衬底。一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN108931891A

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201810681219.0

申请日：2014-11-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本公开的实施例涉及检查方法、光刻设备、掩模以及衬底。一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN105980932A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201480075272.6

申请日：2014-11-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： 一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN1916603B

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN200510091733.1

申请日：2005-08-15

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·登博夫 ,  A·J·布里克 ,  Y·J·L·M·范多梅伦 ,  M·杜萨 ,  A·G·M·基尔斯 ,  P·F·鲁尔曼恩 ,  H·P·M·佩勒曼斯 ,  M·范德沙尔 ,  C·D·格劳斯特拉 ,  M·G·M·范克拉亚

IPC分类号： G01N21/49 ,  G01N22/00 ,  H01L21/66 ,  G03F7/00

CPC分类号： G01N21/8806 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/7065 ,  G03F9/7034

摘要： 一种通过在一高数值孔径透镜的光瞳面中测量一角分解光谱从而确定基底特性的设备与方法，所述角分解光谱是由反射离开所述基底的辐射形成的。所述特性可依角度和波长而变化，并可包括横向磁和横向电偏振光的强度及其相对相位差。