本实用新型公开了一种扩散炉，涉及半导体生产技术领域。该扩散炉包括炉体柜、反应室、废气箱和废气处理机构，反应室设于炉体柜内，反应室的一端设置有炉口，炉口设有可开关的炉门。废气箱设于反应室的一侧，且炉口朝向废气箱设置，炉门打开，反应室与废气箱连通，废气箱上设有排风口。废气处理机构设于炉体柜的顶部，与排风口连通。通过设置废气箱和废气处理机构，并将反应室的炉口朝向废气箱，炉门打开后，反应室与废气箱连通，反应室内反应后的残余气体进入废气箱内，并经排风口进入废气处理机构进行处理，保证反应后的残余气体不外泄，避免了残余气体对设备和外部环境的破坏以及对操作人员的健康产生的影响。