发明公开
EP0010138A1 A method of treating aluminium microcircuits
失效
Verfahren zur Behandlung von Mikroschaltkreisen aus铝。
- 专利标题： A method of treating aluminium microcircuits
- 专利标题（中）： Verfahren zur Behandlung von Mikroschaltkreisen aus铝。
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申请号： EP79103102.4申请日： 1979-08-23
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公开(公告)号： EP0010138A1公开(公告)日： 1980-04-30
- 发明人: Eldridge, Jerome Michael , Lee, Wen-Yaung , Schwartz, Geraldine Cogin
- 申请人： International Business Machines Corporation
- 申请人地址： Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 代理机构： Chaudhry, Mohammad Saeed
- 优先权： US945164 19780925
- 主分类号： C23F7/06
- IPC分类号： C23F7/06 ; C23F1/00 ; C23C15/00 ; H01L21/88
摘要：
Aluminium microcircuits which have been prepared by reactive-ion etching are stablized against open circuits and short circuits by treating the microcircuits in an oxygen- containing atmosphere at a temperature of from 200°C to 450°C.
公开/授权文献
- EP0010138B1 A method of treating aluminium microcircuits 公开/授权日：1983-01-19
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