公开(公告)号：EP0010138B1

公开(公告)日：1983-01-19

申请号：EP79103102.4

申请日：1979-08-23

申请人： International Business Machines Corporation

发明人： Eldridge, Jerome Michael ,  Lee, Wen-Yaung ,  Schwartz, Geraldine Cogin

IPC分类号： C23F7/06 ,  C23F1/00 ,  C23C15/00 ,  H01L21/88

CPC分类号： H01L21/02071 ,  C23C8/12 ,  H01L21/31683

公开(公告)号：EP0010138A1

公开(公告)日：1980-04-30

申请号：EP79103102.4

申请日：1979-08-23

申请人： International Business Machines Corporation

发明人： Eldridge, Jerome Michael ,  Lee, Wen-Yaung ,  Schwartz, Geraldine Cogin

IPC分类号： C23F7/06 ,  C23F1/00 ,  C23C15/00 ,  H01L21/88

CPC分类号： H01L21/02071 ,  C23C8/12 ,  H01L21/31683

摘要： Aluminium microcircuits which have been prepared by reactive-ion etching are stablized against open circuits and short circuits by treating the microcircuits in an oxygen- containing atmosphere at a temperature of from 200°C to 450°C.

摘要翻译： 通过反应离子蚀刻制备的铝微电路通过在200℃至450℃的温度下在含氧气氛中处理微电路而稳定在开路和短路。