发明授权
EP0367127B1 Synthetic silica glass article for dopant-diffusion process in semiconductors
失效
合成二氧化硅玻璃制品在半导体中的掺杂扩散过程
- 专利标题： Synthetic silica glass article for dopant-diffusion process in semiconductors
- 专利标题（中）： 合成二氧化硅玻璃制品在半导体中的掺杂扩散过程
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申请号： EP89119956.4申请日： 1989-10-27
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公开(公告)号： EP0367127B1公开(公告)日： 1993-01-07
- 发明人: Takita, Masatoshi , Shimizu, Takaaki
- 申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 代理机构： Fuchs Mehler Weiss
- 优先权： JP275297/88 19881031
- 主分类号： C03B8/02
- IPC分类号： C03B8/02 ; C03C1/00 ; C03C3/06 ; C03B20/00 ; C30B31/10 ; C30B31/14 ; C30B35/00
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