发明公开
- 专利标题: Composant semiconducteur à jonction Schottky pour amplification hyperfréquence et circuits logiques rapides, et procédé de réalisation d'un tel composant
- 专利标题(英): Schottky junction semiconductor device for microwave amplification and fast logic circuits, and method of making the same
- 专利标题(中): 用于微波放大和快速逻辑电路的肖特基结型半导体器件及其制造方法
-
申请号: EP91401492.3申请日: 1991-06-07
-
公开(公告)号: EP0461967A3公开(公告)日: 1992-07-29
- 发明人: Cachier, Gérard , Gremillet, Jacques
- 申请人: THOMSON-CSF
- 申请人地址: 173, Boulevard Haussmann 75008 Paris FR
- 专利权人: THOMSON-CSF
- 当前专利权人: THOMSON-CSF
- 当前专利权人地址: 173, Boulevard Haussmann 75008 Paris FR
- 代理机构: Albert, Claude
- 优先权: FR9007513 19900615
- 主分类号: H01L29/812
- IPC分类号: H01L29/812 ; H01L21/338
摘要:
Le composant est du type comportant : une électrode inférieure (2), formant soit émetteur ou source, soit collecteur ou drain ; une électrode centrale de commande (21, 25), formant base ou grille ; et une électrode supérieure (4), formant, respectivement, soit collecteur ou drain, soit émetteur ou source, un matériau semiconducteur (3) étant disposé entre l'électrode supérieure et l'électrode inférieure, et l'électrode de commande étant configurée au sein de ce matériau en une pluralité de doigts conducteurs adjacents définissant, dans l'intervalle transversal les séparant, au moins un canal semiconducteur (8) s'étendant verticalement entre l'électrode supérieure et l'électrode inférieure et dont la conduction est commandée par la polarisation de l'électrode de commande. Selon l'invention, la région située, au droit des doigts, entre l'électrode de commande (21, 25) et l'électrode inférieure (2) comprend un matériau isolant (20), de manière à réduire la capacité parasite entre électrode de commande et électrode inférieure. Très avantageusement, les doigts de l'électrode de commande (21, 25) comprenant chacun un dépôt conducteur (25) au fond d'une tranchée respective (7) creusée dans ledit matériau semiconducteur et les flancs de cette tranchée étant recouverts d'une couche de matériau de passivation (23), il est prévu entre lesdits flancs de tranchée et les flancs dudit dépôt conducteur un intervalle (27) à faible constante diélectrique, notamment constitué d'une région transversale dépourvue de matériau, de manière à réduire toute commande parasite du composant par les flancs de tranchée.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类: