发明授权
- 专利标题： Microwave plasma processing method and apparatus
- 专利标题（中）： 用微波等离子体的装置的方法和装置用于加工
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申请号： EP91308702.9申请日： 1991-09-24
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公开(公告)号： EP0478283B1公开(公告)日： 1996-12-27
- 发明人: Kanai, Saburo , Kawasaki, Yoshinao , Ichihashi, Kazuaki , Watanabe, Seiichi , Nawata, Makoto
- 申请人： HITACHI, LTD.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Paget, Hugh Charles Edward
- 优先权： JP254162/90 19900926; JP292049/90 19901031; JP403054/90 19901218
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32
公开/授权文献
- EP0478283A3 Microwave plasma processing method and apparatus 公开/授权日：1992-05-20
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