发明公开
- 专利标题： Photosensitive resin composition
- 专利标题（中）： Photoempfindliche Harzzusammensetzung。
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申请号： EP94302204.6申请日： 1994-03-28
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公开(公告)号： EP0622682A1公开(公告)日： 1994-11-02
- 发明人: Hagiwara, Hideo , Kaji, Makoto , Kojima, Yasunori
- 申请人： HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： 2-1-1, Nishishinjuku Shinjuku-ku, Tokyo JP
- 专利权人： HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 2-1-1, Nishishinjuku Shinjuku-ku, Tokyo JP
- 代理机构： Ben-Nathan, Laurence Albert
- 优先权： JP102482/93 19930428
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004
摘要：
There is disclosed a positive type photosensitive resin composition which comprises an alkali-soluble polymer (A) having a carboxyl group and/or a phenolic hydroxyl group, and a compound (B) which forms an amine compound with irradiation of light.
公开/授权文献
- EP0622682B1 Photosensitive resin composition 公开/授权日：1998-03-04
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IPC分类:
