发明公开
- 专利标题： Verfahren zum Herstellen von räumlich strukturierten Bauteilen
- 专利标题（英）： Process for the fabrication of spatially structured devices
- 专利标题（中）： 一种用于生产结构化空间元件的方法
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申请号： EP98102579.4申请日： 1998-02-14
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公开(公告)号： EP0865075A3公开(公告)日： 2000-02-02
- 发明人: Igel, Günther, Dipl.-Ing. , Mall, Martin, Dr. Dipl.-Phys.
- 申请人： Micronas Intermetall GmbH
- 申请人地址： Hans-Bunte-Strasse 19 79108 Freiburg DE
- 专利权人： Micronas Intermetall GmbH
- 当前专利权人： Micronas Intermetall GmbH
- 当前专利权人地址： Hans-Bunte-Strasse 19 79108 Freiburg DE
- 代理机构： Hornig, Leonore, Dr.
- 优先权： DE19710375 19970313
- 主分类号： H01L21/78
- IPC分类号： H01L21/78 ; H01L21/48 ; H01L21/60 ; H01L21/24 ; H01L23/367
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von räumlich strukturierten Bauteilen 10 aus einem Körper 1, bei dem auf der Rückseite des Körpers 1 eine Verzögerungsschicht 8 mit Durchbrechungen 9 zum Verzögern eines Abtragvorgangs des Materials des Körpers vorgesehen wird, auf der Rückseite des Körpers 1 Gebiete 5 aus einem migrationsfähigen Material aufgebracht werden, der Körper 1 einem thermischen Migrationsverfahren unterzogen wird, so daß Migrationsbereiche 7 entstehen, und dann die Bauteile 10 in einem einzigen Abtragvorgang aus dem Körper 1 herausgetrennt und die Migrationsbereiche 7 freigelegt werden.
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