发明授权
- 专利标题： Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 用浸渍方法和光刻设备用于制造装置
-
申请号： EP03257071.5申请日： 2003-11-10
-
公开(公告)号： EP1420299B1公开(公告)日： 2011-01-05
- 发明人: Lof, Joeri , Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria , Hoogendam, Christiaan Alexander , Loopstra, Erik Roelof , Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus , Straaijer, Alexander , Streefkerk, Bob , Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus , Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria , Sengers, Timotheus Franciscus
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 代理机构： Corcoran, Gregory Martin Mason
- 优先权： EP02257822 20021112; EP03253636 20030609; EP03254059 20030626
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
