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    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    7.
    发明公开
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
    光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：EP1500986A1

    公开(公告)日：2005-01-26

    申请号：EP04254151.6

    申请日：2004-07-12

    申请人： ASML Netherlands B.V.

    发明人： Sengers, Timotheus Franciscus ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Jansen, Hans ,  Boogaard, Arjen

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/7095

    摘要： In a lithographic projection apparatus a liquid supply system maintains liquid in a space between a final element of the projection system and the substrate of the lithographic projection apparatus. A sensor positioned on a substrate table which holds the substrate is adapted for being imaged when immersed in immersion liquid (i.e. under the same conditions as the substrate will be imaged). By ensuring that a primary outer surface of an absorption element of the sensor is formed of one or fewer metal types, long life of the sensor can be expected.

    摘要翻译： 在光刻投影设备中，液体供应系统将液体保持在投影系统的最终元件和光刻投影设备的基板之间的空间中。 定位在保持衬底的衬底台上的传感器适于在浸入浸没液体中时（即，在与衬底成像相同的条件下）成像。 通过确保传感器的吸收元件的主要外表面由一种或多种金属类型形成，可以预期传感器的长寿命。

    Stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
    8.
    发明公开
    Stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method 审中-公开
    Trägervorrichtung，lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

    公开(公告)号：EP1744216A2

    公开(公告)日：2007-01-17

    申请号：EP06076419.8

    申请日：2006-07-10

    申请人： ASML Netherlands B.V.

    发明人： Sengers, Timotheus Franciscus ,  Trentelamn, Mark ,  Jorritsma, Laurentius Catinus ,  Streutker, Gerrit

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70733 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70466

    摘要： In order to improve the productivity of a lithographic apparatus, a stage apparatus for holding two patterning devices is described. The patterning devices are arranged such that the distance (d) between the patterns in the scanning direction corresponds to the length of the pattern in the scanning direction. By doing so, an improved exposure sequence may be performed by exposing a first die (13) with a first pattern (11), skipping a second die adjacent to the first die, and exposing a third die (14) adjacent to the second die using a second pattern (10).

    摘要翻译： 为了提高光刻设备的生产率，描述了用于保持两个图案形成装置的平台装置。 图案形成装置被布置成使得扫描方向上的图案之间的距离（d）对应于图案在扫描方向上的长度。 通过这样做，可以通过用第一图案（11）暴露第一模具（13），跳过与第一模具相邻的第二模具并且暴露与第二模具相邻的第三模具（14）来进行改进的曝光顺序 使用第二图案（10）。

    Lithographic apparatus and device manufacturing method
    10.
    发明公开
    Lithographic apparatus and device manufacturing method 审中-公开
    光刻设备和器件制造方法

    公开(公告)号：EP1510870A1

    公开(公告)日：2005-03-02

    申请号：EP04254910.5

    申请日：2004-08-16

    申请人： ASML Netherlands B.V.

    发明人： Sengers, Timotheus Franciscus ,  van de Kerkhof, Marcus Adrianus ,  Kroon, Mark ,  van Weert, Kees

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085

    摘要： A lithographic apparatus comprising an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate (W), and a sensor (20) at substrate level comprising a radiation-receiving element, a transmissive plate supporting said radiation-receiving element, and a radiation-detecting means, wherein said sensor at substrate level is arranged to avoid loss of radiation between said radiation-receiving element (18) and the final element (40) of said radiation-detecting means.

    摘要翻译： 一种光刻设备，包括：配置成调节辐射束的照明系统; 构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予图案以形成图案化的辐射束; 衬底台，构造成保持衬底; 被配置为将图案化的辐射束投影到衬底（W）的目标部分上的投影系统以及衬底级上的传感器（20），该传感器包括辐射接收元件，支撑所述辐射接收元件的透射板和辐射 - 检测装置，其中所述基底层上的传感器被设置为避免所述辐射接收元件（18）和所述辐射检测装置的最终元件（40）之间的辐射损失。