公开(公告)号：EP1666973B1

公开(公告)日：2010-04-28

申请号：EP05257182.5

申请日：2005-11-22

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Baselmans, Johannes Jacobus Matheus ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Streefkerk, Bob

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

公开(公告)号：EP1486828A3

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：EP04253354.7

申请日：2004-06-04

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  Bijlaart, Erik Theodorus Maria ,  Butler, Hans ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lamburtus ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Meijer, Hendricus Johannes Maria ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Van de Kerkhof, Marcus Adrianus ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Ritsema, Roelof Aeiko Siebrand ,  Van Schaik, Frank ,  Sengers, Timotheus Franciscus ,  Simon, Klaus ,  De Smit, Joannes Theodoor ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Van Santen, Helmar ,  Kroon, Mark ,  Den Boef, Arie Jeffrey ,  Ottens, Joost Jeroen

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F9/7088 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which the space between the final element of the projection system and a sensor is filled with a liquid.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中投影系统的最终元件和传感器之间的空间被填充有液体。

公开(公告)号：EP1510872A3

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：EP04255118.4

申请日：2004-08-25

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Dierichs, Marcel Mathijs Theodore Marie ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Jacobs, Johannes Henricus Wilhelmus ,  Jansen, Hans ,  Loopstra,Erik Roelof ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Stavenga, Marco Koert ,  Streefkerk, Bob ,  Verhagen, Martinus Cornelis Maria ,  Seuntiens-Gruda, Lejla

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

摘要： In a lithographic projection apparatus a liquid supply system maintains liquid in a space between a final element of the projection system and the substrate with a liquid confinement system. The liquid supply system further comprises a de-mineralizing unit, a distillation unit and a UV radiating source for the purification of immersion liquid. Chemicals may be added to the immersion liquid for the inhibition of lifeform growth and components of the liquid supply system may be made of a material which is non-transparent to visible light such that growth of lifeforms is reduced.

摘要翻译： 在光刻投影设备中，液体供应系统利用液体限制系统将液体保持在投影系统的最终元件和衬底之间的空间中。 液体供应系统还包括去矿化单元，蒸馏单元和用于净化浸没液体的UV辐射源。 为了抑制生命形式生长，化学品可以被添加到浸没液体中，并且液体供应系统的组件可以由对可见光不透明的材料制成，使得生命形式的生长减少。

公开(公告)号：EP1528432A1

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：EP04256584.6

申请日：2004-10-26

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  Carl Zeiss SMT AG

发明人： Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Streefkerk, Bob ,  Gellrich, Bernard ,  Wurmbrand, Andreas

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： Liquid is supplied to a space between the final element (PL) of the projection system and the substrate. A flow of gas towards a vacuum chamber (34) prevents the humid air from escaping to other parts of the projection apparatus. This protects intricate parts of the lithographic apparatus from being damaged by the presence of humid air.

摘要翻译： 将液体供应到投影系统的最终元件（PL）和基板之间的空间。 朝向真空室（34）的气体流动防止潮湿空气逸出到投影设备的其他部分。 这保护了光刻设备的复杂部分免受潮湿空气的损害。

公开(公告)号：EP1524558A1

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：EP03256499.9

申请日：2003-10-15

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  Carl Zeiss SMT AG

发明人： Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Baselmans, Johannes Jacobus Matheus ,  Gräupner, Paul ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Streefkerk, Bob

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B3/14 ,  G02B21/33 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithography apparatus comprising a lens, formed from a liquid, which may be the immersion liquid located between the final element of the projection system and the substrate, and having optical properties that may be tuned by a tuning device. The tuning device is arranged to adjust properties of the liquid lens such as the shape, composition, refractive index or absorptivity as a function of space or time in order to change the imaging performance of the apparatus.

摘要翻译： 一种浸没式光刻设备，包括由液体形成的透镜，所述液体可以是位于所述投影系统的所述最终元件和所述衬底之间的所述浸没液体，并且具有可以由调谐设备调谐的光学特性。 调谐装置被设置为根据空间或时间调整液体透镜的性质，例如形状，组成，折射率或吸收率，以便改变装置的成像性能。

公开(公告)号：EP1524557A1

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：EP03256498.1

申请日：2003-10-15

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  Carl Zeiss SMT AG

发明人： Streefkerk, Bob ,  Baselmans, Johannes Jacobus Matheus ,  Engelen, Adrianus Franciscus Petrus ,  Finders, Jozef ,  Graupner, Paul ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Van Schoot, Jan Bernard

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70333

摘要： The present invention relates to an immersion lithographic apparatus and a device manufacturing method in which the position of focus of the projected image is changed during imaging thereby to increase the focus latitude. Immersion lithography lends itself to this and several ways of varying the focus using the liquid supply system to do this are disclosed.

摘要翻译： 浸没式光刻设备及其制造方法，其中投影图像的焦点位置在成像期间发生变化，从而增加了焦点的纬度。 浸入式光刻技术适用于此，并且公开了使用液体供应系统来改变聚焦的几种方式。

公开(公告)号：EP1498781A2

公开(公告)日：2005-01-19

申请号：EP04254057.5

申请日：2004-07-07

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Streefkerk, Bob ,  Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria ,  Lof, Joeri ,  Simon, Klaus ,  Straaijer, Alexander

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891

摘要： An immersion lithography apparatus comprising a temperature controller (23) for adjusting the temperature of the final element of the projection system (PL), the substrate (W) and the liquid towards a common target temperature (T4). Controlling the overall temperature of these elements and reducing temperature gradients improves imaging consistency and general performance. Measures employed include controlling the immersion liquid flow rate and temperature via a feedback circuit.

摘要翻译： 一种浸没式光刻设备，包括用于将投影系统（PL）的最终元件，基板（W）和液体的温度调节到公共目标温度（T4）的温度控制器（23）。 控制这些元素的总体温度并降低温度梯度可提高成像的一致性和一般性能。 采取的措施包括通过反馈电路控制浸没液体的流速和温度。

公开(公告)号：EP1494074A1

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：EP03254139.3

申请日：2003-06-30

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria ,  Lof, Joeri ,  Simon, Klaus ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F7/70341 ,  G03F9/7034

摘要： The pressure and/or height of liquid 11 in a liquid reservoir 10 of an immersion lithography apparatus is obtained by measurement devices 20a, 20b to determine the height and/or tilt of the substrate W.

摘要翻译： 浸没式光刻设备的液体储存器10中的液体11的压力和/或高度由测量装置20a，20b获得以确定衬底W的高度和/或倾斜。

公开(公告)号：EP1477856A1

公开(公告)日：2004-11-17

申请号：EP04252437.1

申请日：2004-04-27

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Streefkerk, Bob ,  Bakker, Levinus Pieter ,  Baselmans, Johannes Jacobus Matheus ,  Cox, Henrikus Herman Marie ,  Derksen, Antonius Theodorus Anna Maria ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Lof, Joeri ,  Loopstra, Erik Roelof

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus in which a localized area of the substrate surface under a projection system PL is immersed in liquid. The height of the liquid supply system 310 above the surface of the substrate W can be varied using actuators 314. A control system uses feedforward or feedback control with input of the surface height of the substrate W to maintain the liquid supply system 310 at a predetermined height above the surface of the substrate W.

摘要翻译： 一种光刻设备，其中投影系统PL下的衬底表面的局部区域浸入液体中。 液体供应系统310在衬底W的表面上方的高度可以使用致动器314来改变。控制系统使用前馈或反馈控制以输入衬底W的表面高度以将液体供应系统310保持在预定的 基片W表面以上的高度。

公开(公告)号：EP1429188A2

公开(公告)日：2004-06-16

申请号：EP03257068.1

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  Bijlaart, Erik Theodorus Maria ,  Butler, Hans ,  Donders, Sjoerd Nicolaas Lambertus ,  Hoogendam, Christiaan Alexander ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik Roelof ,  Meijer, Hendricus Johannes Maria ,  Mertens, Jeroen Johannes Sophia Maria ,  Mulkens, Johannes Catharinus Hubertus ,  Ritsema, Roelof Aeilko Siebrand ,  Van Schaik, Frank ,  Sengers, Timotheus Franciscus ,  Simon, Klaus ,  De Smit, Joannes Theodoor ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Van Santen, Helmar

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed in which the space between the final element of the projection system and the substrate is filled with a liquid. An edge seal member 17, 117 at least partly surrounds the substrate W or other object on the substrate table WT to prevent catastrophic liquid loss when edge portions of the substrate or are imaged or illuminated.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置，其中投影系统的最终元件和基板之间的空间被填充有液体。 边缘密封构件17,117至少部分地围绕衬底W或衬底台WT上的其它物体，以防止衬底的边缘部分或成像或照明时的灾难性液体损失。