发明公开
- 专利标题： NOVEL POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
- 专利标题（中）： 新型正型感光性树脂组合物
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申请号： EP04754202.2申请日： 2004-06-03
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公开(公告)号： EP1636648A2公开(公告)日： 2006-03-22
- 发明人: RUSHKIN, Il'ya , NAIINI, Ahmad, A. , HOPLA, Richard , WATERSON, Pamela, J. , WEBER, William, D.
- 申请人： FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.
- 申请人地址： 80 Circuit Drive North Kingstown, RI 02852 US
- 专利权人： FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.
- 当前专利权人： FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.
- 当前专利权人地址： 80 Circuit Drive North Kingstown, RI 02852 US
- 代理机构： Campbell, Neil Boyd
- 优先权： US476042P 20030605
- 国际公布： WO2005000912 20050106
- 主分类号： G03C1/73
- IPC分类号： G03C1/73
摘要：
An end-capped polybenzoxazole precursor having acid labile functional groups, positive working photosensitive compositions thereof and use of the compositions for producing heat resistant relief images on substrates.
公开/授权文献
- EP1636648B1 NOVEL POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS 公开/授权日：2015-08-12
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