发明公开
- 专利标题： THIN FILM FORMING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD
- 专利标题（中）： 装置和方法的形成薄膜
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申请号： EP04745448申请日： 2004-05-31
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公开(公告)号： EP1640474A4公开(公告)日： 2011-06-22
- 发明人: SONG YIZHOU , SAKURAI TAKESHI , MURATA TAKANORI
- 申请人： SHINCRON CO LTD
- 专利权人： SHINCRON CO LTD
- 当前专利权人： SHINCRON CO LTD
- 优先权： JP0306951 2003-06-02
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C23C14/00 ; C23C14/08 ; C23C14/10 ; C23C14/35 ; C23C14/56 ; C23C14/58 ; C23C16/44 ; C23C16/50 ; C23F4/00 ; H01J37/32 ; H01L21/31 ; H01L21/318 ; H05H1/46
摘要：
A thin film deposition apparatus (1) of the present invention includes a vacuum container (11) for maintaining a vacuum therein, gas introduction means (76) for introducing a reactive gas into the vacuum container (11), and plasma generating means (61) for generating a plasma of the reactive gas within the vacuum container (11).
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