发明授权
EP1710230B1 Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
有权
磺酸盐和它们的衍生物，光致产酸化合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
- 专利标题： Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
- 专利标题（中）： 磺酸盐和它们的衍生物，光致产酸化合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
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申请号： EP06251944.2申请日： 2006-04-06
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公开(公告)号： EP1710230B1公开(公告)日： 2013-08-14
- 发明人: Ohsawa, Youichi, c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. , Watanabe, Takeru, c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. , Kinsho, Takeshi c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. , Kobayashi, Katsuhiro, c/o Shin-Etsu Chem Co. Ltd.
- 申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 代理机构： Stoner, Gerard Patrick
- 优先权： JP2005109903 20050406; JP2005316096 20051031
- 主分类号： C07C309/12
- IPC分类号： C07C309/12 ; C07D307/64 ; C07D307/68 ; C07D333/46 ; C07C381/12 ; C07C25/18 ; G03F7/004
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