- 专利标题： METHOD FOR PLASMA PROCESSING
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申请号： EP10797882.7申请日： 2010-07-08
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公开(公告)号： EP2451991B1公开(公告)日： 2019-07-03
- 发明人: SAVAS, Stephen, Edward , GALEWSKI, Carl , WIESNOSKI, Allan, B. , MANTRIPRAGADA, Sai , JOH, Sooyun
- 申请人： Aixtron SE
- 申请人地址： Dornkaulstrasse 2 52134 Herzogenrath DE
- 专利权人： Aixtron SE
- 当前专利权人： Aixtron SE
- 当前专利权人地址： Dornkaulstrasse 2 52134 Herzogenrath DE
- 代理机构： Grundmann, Dirk
- 优先权： US224047P 20090708; US322788P 20100409
- 国际公布： WO2011006018 20110113
- 主分类号： C23C16/505
- IPC分类号： C23C16/505 ; C23F1/00 ; H05H1/24 ; B05D1/36 ; C23C16/24 ; C23C16/34 ; C23C16/40 ; C23C16/44 ; C23C16/455 ; C23C16/50 ; C23C16/503 ; H01J37/32 ; H01L21/67 ; C23C16/46 ; C23C16/54 ; C23C16/26
公开/授权文献
- EP2451991A2 APPARATUS AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING 公开/授权日：2012-05-16
信息查询
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