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1.

发明授权
METHOD FOR PLASMA PROCESSING 有权

公开(公告)号：EP2451991B1

公开(公告)日：2019-07-03

申请号：EP10797882.7

申请日：2010-07-08

申请人： Aixtron SE

发明人： SAVAS, Stephen, Edward , GALEWSKI, Carl , WIESNOSKI, Allan, B. , MANTRIPRAGADA, Sai , JOH, Sooyun

IPC分类号： C23C16/505 , C23F1/00 , H05H1/24 , B05D1/36 , C23C16/24 , C23C16/34 , C23C16/40 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C16/503 , H01J37/32 , H01L21/67 , C23C16/46 , C23C16/54 , C23C16/26