发明授权
EP2624279B1 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, THIN FILM FORMING METHOD, DEFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE FABRICATION METHOD
有权
DEVICE辐射带电粒子薄膜形成法，纠错方式和方法，用于制造器件
- 专利标题： CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, THIN FILM FORMING METHOD, DEFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE FABRICATION METHOD
- 专利标题（中）： DEVICE辐射带电粒子薄膜形成法，纠错方式和方法，用于制造器件
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申请号： EP11828920.6申请日： 2011-09-22
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公开(公告)号： EP2624279B1公开(公告)日： 2017-04-05
- 发明人: KOYAMA, Yoshihiro , YASAKA, Anto , SHIMODA, Tatsuya , MATSUKI, Yasuo , KAWAJIRI, Ryo
- 申请人： Hitachi High-Tech Science Corporation , Japan Science and Technology Agency , JSR Corporation
- 申请人地址： 24-14, Nishi-shimbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-0003 JP
- 专利权人： Hitachi High-Tech Science Corporation,Japan Science and Technology Agency,JSR Corporation
- 当前专利权人： Hitachi High-Tech Science Corporation,Japan Science and Technology Agency,JSR Corporation
- 当前专利权人地址： 24-14, Nishi-shimbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-0003 JP
- 代理机构： Miller Sturt Kenyon
- 优先权： JP2010217084 20100928
- 国际公布： WO2012043363 20120405
- 主分类号： H01J37/305
- IPC分类号： H01J37/305 ; H01J37/30 ; H01J37/317 ; C23C16/04 ; C23C16/24 ; C23C16/32 ; C23C16/40 ; C23C16/42 ; C23C16/48 ; C23C16/56 ; H01L21/02 ; H01L21/28 ; H01L21/66 ; H01L29/66
公开/授权文献
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