发明授权
- 专利标题： PHOTOMASK BLANK AND PROCESS FOR PRODUCTION OF A PHOTOMASK
- 专利标题（中）： 光掩模坯料及其制造方法的光掩模
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申请号： EP11843140.2申请日： 2011-11-18
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公开(公告)号： EP2645166B1公开(公告)日： 2016-01-13
- 发明人: YOSHIKAWA, Hiroki , FUKAYA, Souichi , INAZUKI, Yukio , YAMAMOTO, Tsuneo , NAKAGAWA, Hideo
- 申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004 JP
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004 JP
- 代理机构： Smaggasgale, Gillian Helen
- 优先权： JP2010259675 20101122; JP2011127511 20110607
- 国际公布： WO2012070209 20120531
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G03F1/54 ; C22C27/06 ; C22C28/00 ; C22C29/00 ; C23C14/14 ; G03F1/30 ; C23C14/06 ; G03F1/50 ; G03F1/80
公开/授权文献
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