发明公开
EP2744307A4 APPARATUS FOR PLASMA GENERATION, METHOD FOR MANUFACTURING ROTATING ELECTRODES FOR PLASMA GENERATION APPARATUS, METHOD FOR PLASMA TREATMENT OF SUBSTRATE, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM OF MIXED STRUCTURE USING PLASMA
审中-公开
等离子体产生装置，用于生产旋转电极等离子发生装置，方法基板的等离子体处理和一种用于生产薄膜从混合结构BY等离子对
- 专利标题： APPARATUS FOR PLASMA GENERATION, METHOD FOR MANUFACTURING ROTATING ELECTRODES FOR PLASMA GENERATION APPARATUS, METHOD FOR PLASMA TREATMENT OF SUBSTRATE, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM OF MIXED STRUCTURE USING PLASMA
- 专利标题（中）： 等离子体产生装置，用于生产旋转电极等离子发生装置，方法基板的等离子体处理和一种用于生产薄膜从混合结构BY等离子对
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申请号： EP12821442申请日： 2012-08-10
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公开(公告)号： EP2744307A4公开(公告)日： 2015-01-14
- 发明人: NAM KEE-SEOK , KWON JUNG-DAE , JEONG YONG SOO , LEE GUN HWAN , YOON JUNG HEUM , LEE SUNG HUN , KIM DONG HO , KANG JAE WOOK , PARK SUNGGYU , KIM CHANG SU
- 申请人： KOREA MACH & MATERIALS INST
- 专利权人： KOREA MACH & MATERIALS INST
- 当前专利权人： KOREA MACH & MATERIALS INST
- 优先权： KR20110079921 2011-08-11; KR20120037089 2012-04-10; KR20120077974 2012-07-17
- 主分类号： H05H1/34
- IPC分类号： H05H1/34 ; C23C16/50 ; C23C16/503 ; C23C16/509 ; H01J9/02 ; H01J37/32 ; H01L21/205 ; H05H1/24 ; H05H1/48
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