化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法

Invention Patent

JP6346129B2 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法有权

Patent Title: 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法
Patent Title (English): JP6346129B2 - Compounds, polymeric compounds, the resist composition, and pattern forming method
Application No.: JP2015155343

Application Date: 2015-08-05
Publication No.: JP6346129B2

Publication Date: 2018-06-20
Inventor: 大橋正樹 , 畠山潤 , 福島将大 , 藤原敬之
Applicant: 信越化学工業株式会社
Applicant Address: 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
Assignee: 信越化学工業株式会社
Current Assignee: 信越化学工業株式会社
Current Assignee Address: 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
Agent 好宮幹夫
Main IPC: G03F7/039
IPC: G03F7/039 ; G03F7/038 ; G03F7/004 ; G03F7/20 ; C08F220/38

Public/Granted literature

Information query

Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/039	..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023）