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公开(公告)号：JP6984626B2
公开(公告)日：2021-12-22
申请号：JP2019028583
申请日：2019-02-20
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C07C311/51 , C08F20/18 , C08F12/22 , C07D313/06 , C07J43/00 , C07J31/00 , G03F7/004
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公开(公告)号：JP2021170101A
公开(公告)日：2021-10-28
申请号：JP2020109777
申请日：2020-06-25
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/039 , C09K3/00 , C08F220/38 , G03F7/20 , G03F7/004
Abstract: 【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつLWRやCDUが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるスルホニウム塩を含む酸発生剤を含むレジスト材料。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021091645A
公开(公告)日：2021-06-17
申请号：JP2019224690
申请日：2019-12-12
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/20 , C07C59/135 , C07C59/64 , C07C69/76 , C07C69/757 , C07C317/14 , C07D333/76 , C07D307/00 , C07C381/12
Abstract: 【課題】KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線等の高エネルギー線を光源とするフォトリソグラフィーにおいて、高感度であり、CDU、LWR等のリソグラフィー性能に優れる化学増幅レジスト組成物、これに使用される酸拡散抑制剤、及び該化学増幅レジスト組成物を用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるオニウム塩化合物、該オニウム塩化合物からなる酸拡散抑制剤、及び該酸拡散抑制剤を含む化学増幅レジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021012360A
公开(公告)日：2021-02-04
申请号：JP2020101553
申请日：2020-06-11
Applicant: 信越化学工業株式会社
Abstract: 【課題】従来のポジ型レジスト材料を上回る感度及び解像度を有し、エッジラフネスが小さく、寸法均一性に優れ、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 【解決手段】ヨウ素原子又は臭素原子で置換された芳香環を有するフルオロスルホン酸のアンモニウム塩構造を有する繰り返し単位a、並びにカルボキシ基の水素原子が酸不安定基で置換された繰り返し単位b1及びフェノール性ヒドロキシ基の水素原子が酸不安定基で置換された繰り返し単位b2から選ばれる少なくとも1つを含むベースポリマーを含むポジ型レジスト材料。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2019038764A
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：JP2017161031
申请日：2017-08-24
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D327/08 , C07D339/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/20 , C08F220/10 , C07C381/12
Abstract: 【課題】高エネルギー線を用いるフォトリソグラフィーで、欠陥が少なく、感度、LWR、CDUに優れたレジスト組成物、及び該組成物を用いるパターン形成方法の提供。 【解決手段】式(1)で表されるスルホニウム化合物。 [L 1 はヘテロ原子含有基を含んでいてもよい2価炭化水素基;Xは2価の連結基;Zは式(1A)〜(1C)で表されるスルフォニウムカチオン基。 (R 1a 〜R 1c は夫々独立にヘテロ原子含有基を含んでいてもよい1価炭化水素基;破線はXとの結合手;Aは単結合、メチレン、カルボニル、スルフィニル、アミノ、O、S、エステル等)] 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2019011454A
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2017235690
申请日：2017-12-08
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: C08L33/14 , C08K3/04 , C08K3/22 , C08K9/02 , C08L25/18 , C08F12/30 , A61B5/0408 , C07C311/04 , C08F20/38
Abstract: 【課題】導電性及び生体適合性に優れ、軽量であり、かつ低コストで製造することができ、水に濡れても乾燥しても導電性が大幅に低下することがない生体電極用の生体接触層を形成できる生体電極組成物、該生体電極組成物に好適に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の原料として好適な重合性モノマー、上記の生体電極組成物で生体接触層を形成した生体電極、及びその製造方法を提供する。 【解決手段】下記一般式(1)で示される重合性モノマー。 【化1】 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6366550B2
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：JP2015165288
申请日：2015-08-24
Applicant: 信越化学工業株式会社
CPC classification number: C08F220/38 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F14/18 , C08F16/30 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F120/38 , C08F122/24 , C08F128/02 , C08F212/14 , C08F228/02 , C08F2220/387 , H01B1/122 , H01B1/124 , H01B1/125
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公开(公告)号：JP6346129B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2015155343
申请日：2015-08-05
Applicant: 信越化学工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/20 , C08F220/38
CPC classification number: G03F7/039 , C07C309/12 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D327/08 , C08F220/20 , C08F220/38 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C08F2220/302 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38
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公开(公告)号：JP2017190402A
公开(公告)日：2017-10-19
申请号：JP2016080899
申请日：2016-04-14
Applicant: 信越化学工業株式会社
Inventor： 藤原 敬之
IPC: C08F212/14 , C07C311/48 , C07C307/02 , C08F220/38
CPC classification number: G03F7/0392 , C07C307/02 , C07C311/49 , C07C381/12 , C07D307/00 , C08F220/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , C07C2603/74 , C08F220/20 , C08F2220/1866 , C08F2220/387
Abstract: 【課題】ArFエキシマレーザー光、EB、EUV等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、酸拡散が小さく、高感度かつ高解像性であり、MEF、LWRやCDU等のリソグラフィー性能のバランスに優れ、また相溶性に優れディフェクトが発現しにくい化学増幅型レジスト組成物に使用される単量体等を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表される単量体。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6194862B2
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：JP2014153677
申请日：2014-07-29
Applicant: 信越化学工業株式会社
CPC classification number: G03F7/0757 , C07C39/21 , C08G77/12 , C08L83/14 , C09D183/14 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/2037 , G03F7/32 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/312 , H01L21/321 , C08G77/52
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