发明专利
- 专利标题: 半導體裝置及其製法
- 专利标题(英): Semiconductor device and method of manufacture
- 专利标题(中): 半导体设备及其制法
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申请号: TW102124670申请日: 2013-07-10
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公开(公告)号: TW201503304A公开(公告)日: 2015-01-16
- 发明人: 林長甫 , LIN, CHANG FU , 姚進財 , YAO, CHIN TSAI , 莊旻錦 , CHUANG, MIN CHIN , 黃富堂 , HUANG, FU TANG
- 申请人: 矽品精密工業股份有限公司 , SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- 申请人地址: 臺中市
- 专利权人: 矽品精密工業股份有限公司,SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- 当前专利权人: 矽品精密工業股份有限公司,SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO., LTD.
- 当前专利权人地址: 臺中市
- 代理商 陳昭誠
- 主分类号: H01L23/488
- IPC分类号: H01L23/488 ; H01L21/56
摘要:
一種半導體裝置及其製法,該半導體裝置包括:基板,係具有基板本體與形成於該基板本體上之至少一金屬墊,該金屬墊具有第一表面與形成於該第一表面之至少一開孔;半導體元件,係具有至少一銲墊;導電元件,係形成於該金屬墊與該銲墊之間及該金屬墊之開孔內;以及膠體,係形成於該基板與該半導體元件之間,以包覆該導電元件。藉此,本發明能強化該導電元件與該金屬墊間之接合力,以提升該半導體裝置之良率。
公开/授权文献
- TWI508247B 半導體裝置及其製法 公开/授权日:2015-11-11
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IPC分类: