Invention Patent
- Patent Title: 半導體元件及其製造方法
- Patent Title (English): Semiconductor device and manufacturing method thereof
- Patent Title (中): 半导体组件及其制造方法
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Application No.: TW105139311Application Date: 2016-11-29
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Publication No.: TW201730937APublication Date: 2017-09-01
- Inventor: 陳奕升 , CHEN, I SHENG , 吳政憲 , WU, CHENG HSIEN , 葉致鍇 , YEH, CHIH CHIEH
- Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Applicant Address: 新竹市
- Assignee: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Current Assignee: 台灣積體電路製造股份有限公司,TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
- Current Assignee Address: 新竹市
- Agent 李世章; 秦建譜
- Priority: 62/261,267 20151130;15/098,073 20160413
- Main IPC: H01L21/28
- IPC: H01L21/28 ; H01L21/336 ; H01L29/06 ; H01L29/16 ; H01L29/161 ; H01L29/165 ; H01L29/24 ; H01L29/267 ; H01L29/423 ; H01L29/66 ; H01L29/78 ; H01L29/786
Abstract:
一種半導體元件包含:第一通道層,其設置於基板上方;第一源極/汲極區,其設置於基板上方;閘極介電層,其設置於第一通道層中之每一者上且纏繞第一通道層中之每一者;以及閘電極層,其設置於閘極介電層上且纏繞第一通道層中之每一者。第一通道層中之每一者包含由第一半導體材料製成之半導體線。半導體線延伸至第一源極/汲極區中。第一源極/汲極區中之半導體線由第二半導體材料捲繞。
Public/Granted literature
- TWI636497B 半導體元件及其製造方法 Public/Granted day:2018-09-21
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IPC分类: