Invention Patent
TW201730937A 半導體元件及其製造方法 审中-公开
半导体组件及其制造方法

半導體元件及其製造方法
Abstract:
一種半導體元件包含:第一通道層,其設置於基板上方;第一源極/汲極區,其設置於基板上方;閘極介電層,其設置於第一通道層中之每一者上且纏繞第一通道層中之每一者;以及閘電極層,其設置於閘極介電層上且纏繞第一通道層中之每一者。第一通道層中之每一者包含由第一半導體材料製成之半導體線。半導體線延伸至第一源極/汲極區中。第一源極/汲極區中之半導體線由第二半導體材料捲繞。
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