- 专利标题： Microchip charge patterning
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申请号： US16008961申请日： 2018-06-14
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公开(公告)号： US11574876B2公开(公告)日： 2023-02-07
- 发明人: Eugene M. Chow , JenPing Lu , Armin R. Volkel , Bing R. Hsieh , Gregory L. Whiting , Sean E. Doris
- 申请人： PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
- 申请人地址： US CA Palo Alto
- 专利权人： PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
- 当前专利权人： PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
- 当前专利权人地址： US CA Palo Alto
- 代理机构： Miller Nash LLP
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; H01L23/544 ; H01L23/00
摘要：
A method of forming a charge pattern on a microchip includes depositing a material on the surface of the microchip, and immersing the microchip in a fluid to develop charge in or on the material through interaction with the surrounding fluid.
公开/授权文献
- US20180294232A1 MICROCHIP CHARGE PATTERNING 公开/授权日：2018-10-11
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IPC分类:
