- 专利标题： Lithography system bandwidth control
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申请号： US17064331申请日： 2020-10-06
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公开(公告)号： US11769982B2公开(公告)日： 2023-09-26
- 发明人: Tanuj Aggarwal
- 申请人： Cymer, LLC
- 申请人地址： US CA San Diego
- 专利权人： Cymer, LLC
- 当前专利权人： Cymer, LLC
- 当前专利权人地址： US CA San Diego
- 代理机构： DiBerardino McGovern IP Group LLC
- 主分类号： H01S3/10
- IPC分类号： H01S3/10 ; H01S3/13 ; G03F7/00 ; H01S3/00 ; H01S3/225 ; H01S3/134 ; H01S3/23
摘要：
Methods and apparatus for controlling laser firing timing and hence bandwidth in a laser capable of operating at any one of multiple repetition rates.
公开/授权文献
- US20210021094A1 LITHOGRAPHY SYSTEM BANDWIDTH CONTROL 公开/授权日：2021-01-21
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