- 专利标题： Etching composition for thin film containing silver, method for forming pattern and method for manufacturing a display device using the same
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申请号： US18122706申请日： 2023-03-17
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公开(公告)号： US12031076B2公开(公告)日： 2024-07-09
- 发明人: Jonghee Park , Hyoung Sik Kim , O Byoung Kwon , Gi-Yong Nam , Kyungchan Min , Suck Jun Lee , Youngmin Kim , Jinhyung Kim , Donghun Lee , Kyu-Hun Lim , Dongmin Jang
- 申请人： Samsung Display Co., Ltd.
- 申请人地址： KR Yongin-Si
- 专利权人： Samsung Display Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Display Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Yongin-si
- 代理机构： Innovation Counsel LLP
- 优先权： KR 20200185187 2020.12.28
- 分案原申请号： US17388712 2021.07.29
- 主分类号： C09K13/06
- IPC分类号： C09K13/06 ; C23F1/02 ; C23F1/44 ; H10K59/12 ; H10K71/00 ; H10K71/20
摘要：
An etching composition for a silver-containing thin film, the etching composition comprising an inorganic acid compound, a sulfonic acid compound, an organic acid compound, a nitrate, a metal oxidizing agent, an amino acid compound, and water.
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