发明申请
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US10853577申请日： 2004-05-26
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公开(公告)号： US20050007572A1公开(公告)日： 2005-01-13
- 发明人: Richard George , Cheng-Qun Gui , Pieter Willem Jager , Robbert Edgar Leeuwen , Jacobus Burghoom
- 申请人： Richard George , Cheng-Qun Gui , Pieter Willem Jager , Robbert Edgar Leeuwen , Jacobus Burghoom
- 优先权： EP03253419.0 20030530
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F9/00 ; H01L21/027 ; G03B27/52
摘要：
A lithographic apparatus in which alignment marks on the substrate are inspected during the exposure of the substrate to optimize the exposure conditions.
公开/授权文献
- US07385675B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2008-06-10
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