公开(公告)号：US20050007572A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10853577

申请日：2004-05-26

申请人： Richard George ,  Cheng-Qun Gui ,  Pieter Willem Jager ,  Robbert Edgar Leeuwen ,  Jacobus Burghoom

发明人： Richard George ,  Cheng-Qun Gui ,  Pieter Willem Jager ,  Robbert Edgar Leeuwen ,  Jacobus Burghoom

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7026

摘要： A lithographic apparatus in which alignment marks on the substrate are inspected during the exposure of the substrate to optimize the exposure conditions.

摘要翻译： 在基板曝光期间检查基板上的对准标记以优化曝光条件的光刻设备。