发明申请
US20050048402A1 Positive resist composition and pattern formation method using the same
失效
正型抗蚀剂组成和使用其的图案形成方法
- 专利标题： Positive resist composition and pattern formation method using the same
- 专利标题（中）： 正型抗蚀剂组成和使用其的图案形成方法
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申请号： US10929443申请日： 2004-08-31
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公开(公告)号： US20050048402A1公开(公告)日： 2005-03-03
- 发明人: Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki , Shinichi Kanna
- 申请人： Kazuyoshi Mizutani , Tomoya Sasaki , Shinichi Kanna
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 优先权： JPP.2003-308699 20030901; JPP.2003-318310 20030910; JPP.2004-047404 20040224
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03C1/76 ; G03F7/004 ; H01L21/027
摘要：
A positive resist composition comprising (A) a resin that is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and includes a specific repeating unit and (B) a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation, and a pattern formation method using the positive resist composition.
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