- 专利标题： Photoresist compositions
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申请号： US10909513申请日： 2004-08-02
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公开(公告)号： US20060024610A1公开(公告)日： 2006-02-02
- 发明人: Munirathna Padmanaban , Guanyang Lin , Takanori Kudo , Chi-Sun Hong , M. Dalil Rahman
- 申请人： Munirathna Padmanaban , Guanyang Lin , Takanori Kudo , Chi-Sun Hong , M. Dalil Rahman
- 主分类号： G03C1/76
- IPC分类号： G03C1/76
摘要：
The present invention provides for a photoresist composition comprising a mixture of two different copolymers.
公开/授权文献
- US07122291B2 Photoresist compositions 公开/授权日：2006-10-17
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