公开(公告)号：US20060024610A1

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：US10909513

申请日：2004-08-02

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Guanyang Lin ,  Takanori Kudo ,  Chi-Sun Hong ,  M. Dalil Rahman

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Guanyang Lin ,  Takanori Kudo ,  Chi-Sun Hong ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0395 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides for a photoresist composition comprising a mixture of two different copolymers.

公开(公告)号：US07122291B2

公开(公告)日：2006-10-17

申请号：US10909513

申请日：2004-08-02

申请人： Munirathna Padmanaban ,  Guanyang Lin ,  Takanori Kudo ,  Chi-Sun Hong ,  M. Dalil Rahman

发明人： Munirathna Padmanaban ,  Guanyang Lin ,  Takanori Kudo ,  Chi-Sun Hong ,  M. Dalil Rahman

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/39 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08L37/00

CPC分类号： G03F7/0395 ,  Y10S430/111

摘要： The present invention provides for a photoresist composition comprising a mixture of two different copolymers.

摘要翻译： 本发明提供包含两种不同共聚物的混合物的光致抗蚀剂组合物。