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    Antireflective compositions and methods of using same
    1.
    发明授权
    Antireflective compositions and methods of using same 有权
    抗反射组合物及其使用方法

    公开(公告)号：US09170494B2

    公开(公告)日：2015-10-27

    申请号：US13527156

    申请日：2012-06-19

    申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho

    发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  JoonYeon Cho

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/168 ,  G03F7/40

    摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer obtained from a reaction product of at least one amino compound chosen from the group consisting of a polymer with repeat unit of structure (1), structure (2) and mixtures thereof reacted with a hydroxy compound chosen from the group consisting of structure (3), structure (4) and mixtures thereof, and, a thermal acid generator. The invention also relates to a process for using the novel composition in lithography.

    摘要翻译： 本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物，其包含由至少一种氨基化合物的反应产物获得的聚合物，所述反应产物选自具有结构（1）的重复单元的聚合物，结构（2）及其与 选自结构（3），结构（4）及其混合物的羟基化合物，以及热酸产生剂。 本发明还涉及在光刻中使用该新型组合物的方法。

    ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SAME
    3.
    发明申请
    ANTIREFLECTIVE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SAME 有权
    抗反应性组合物及其使用方法

    公开(公告)号：US20130337379A1

    公开(公告)日：2013-12-19

    申请号：US13527156

    申请日：2012-06-19

    申请人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  JoonYeon CHO

    发明人： Huirong YAO ,  Guanyang LIN ,  JoonYeon CHO

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/168 ,  G03F7/40

    摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer obtained from a reaction product of at least one amino compound chosen from the group consisting of a polymer with repeat unit of structure (1), structure (2) and mixtures thereof reacted with a hydroxy compound chosen from the group consisting of structure (3), structure (4) and mixtures thereof, and, a thermal acid generator. The invention also relates to a process for using the novel composition in lithography.

    摘要翻译： 本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物，其包含由至少一种氨基化合物的反应产物获得的聚合物，所述反应产物选自具有结构（1）的重复单元的聚合物，结构（2）及其与 选自结构（3），结构（4）及其混合物的羟基化合物，以及热酸产生剂。 本发明还涉及在光刻中使用该新型组合物的方法。

    Antireflective Compositions and Methods of Using Same
    4.
    发明申请
    Antireflective Compositions and Methods of Using Same 有权
    抗反射组合物及其使用方法

    公开(公告)号：US20110200938A1

    公开(公告)日：2011-08-18

    申请号：US12708205

    申请日：2010-02-18

    申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jianhui Shan ,  Joon Yeon Cho ,  Salem K. Mullen

    发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Jianhui Shan ,  Joon Yeon Cho ,  Salem K. Mullen

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： A novel antireflective coating composition is provided, said antireflective coating composition comprising a) a compound of formula 1, b) a thermal acid generator, (c) at least one polymer, wherein U1 and U2 are independently a C1-C10 alkylene group; V is selected from a C1-C10 alkylene, arylene and aromatic alkylene; W is selected from H, C1-C10 alkyl, aryl, alkylaryl and V—OH; Y is selected from H, W, and U3C(O)OW, wherein U3 is independently a C1-C10 alkylene group, and m is 1 to 10. Also provided are methods using said compositions as antireflective coatings for substrates in lithographic processes.

    摘要翻译： 提供了一种新型抗反射涂料组合物，所述抗反射涂料组合物包含a）式1化合物，b）热酸产生剂，（c）至少一种聚合物，其中U1和U2独立地为C1-C10亚烷基; V选自C 1 -C 10亚烷基，亚芳基和芳族亚烷基; W选自H，C 1 -C 10烷基，芳基，烷基芳基和V-OH; Y选自H，W和U3C（O）OW，其中U3独立地为C1-C10亚烷基，m为1至10.还提供了使用所述组合物作为光刻工艺中的底物的抗反射涂层的方法。

    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
    6.
    发明授权
    Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using 有权
    促进自组装的底层成分及制作及使用方法

    公开(公告)号：US09093263B2

    公开(公告)日：2015-07-28

    申请号：US14039809

    申请日：2013-09-27

    申请人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    发明人： Hengpeng Wu ,  Jian Yin ,  Guanyang Lin ,  JiHoon Kim ,  Jianhui Shan

    IPC分类号： H01L21/02 ,  C03C15/00

    CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F220/14 ,  C08F220/40 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02282 ,  C08F212/08

    摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.

    摘要翻译： 本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。 底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。

    Antireflective composition for photoresists
    7.
    发明授权
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US08551686B2

    公开(公告)日：2013-10-08

    申请号：US12609222

    申请日：2009-10-30

    申请人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Mark O. Neisser

    发明人： Huirong Yao ,  Guanyang Lin ,  Mark O. Neisser

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C09D167/00 ,  H01L21/027

    CPC分类号： C09D167/02 ,  C08G63/16 ,  G03F7/091

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, X is a linking moiety selected from a nonaromatic (A) moiety, aromatic (P) moiety and mixture thereof, R′ is a group of structure (2), R″ is independently selected from hydrogen, a moiety of structure (2), Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbylene linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbylene linking moiety, where structure (2) is where R1 and R2 are independently selected from H and C1-C4alkyl and L is an organic hydrocarbyl group. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中X是选自非芳族（A） 部分，芳族（P）部分及其混合物，R'是结构（2）的基团，R“独立地选自氢，结构（2）的部分，Z和W-OH，其中Z是（ C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）亚烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）亚烃基连接部分，其中结构（2）是其中R 1和R 2独立地选自H 和C 1 -C 4烷基，L是有机烃基。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective Coating Composition and Process Thereof
    10.
    发明申请
    Antireflective Coating Composition and Process Thereof 有权
    防反射涂料组合物及其工艺

    公开(公告)号：US20110300488A1

    公开(公告)日：2011-12-08

    申请号：US12792994

    申请日：2010-06-03

    申请人： Huirong Yao ,  Jain Yin ,  Guanyang Lin ,  Mark Neisser ,  David Abdallah

    发明人： Huirong Yao ,  Jain Yin ,  Guanyang Lin ,  Mark Neisser ,  David Abdallah

    IPC分类号： G03F7/20 ,  F21V9/06

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G02B1/04 ,  G02B1/111 ,  G03F7/0046 ,  C08L33/16 ,  C08L33/24 ,  C08L33/066 ,  C08L61/20 ,  C08L79/08

    摘要： The invention related to an antireflective coating comprising a mixture of a first polymer and a second polymer, and a thermal acid generator, where the first polymer comprises at least one fluoroalcohol moiety, at least one aliphatic hydroxyl moiety, and at least one acid moiety other than fluoroalcohol with a pKa in the range of about 8 to about 11; where the second polymer is a reaction product of an aminoplast compound with a compound comprising at least one hydroxyl and/or at least one acid group. The invention further relates to a process for using the novel composition to form an image.

    摘要翻译： 本发明涉及包含第一聚合物和第二聚合物和热酸产生剂的混合物的抗反射涂层，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分，至少一个脂族羟基部分和至少一个酸部分其它 而pKa在约8至约11的范围内的氟代醇; 其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基团的化合物的反应产物。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。