发明申请
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern-forming method using the same
- 专利标题（中）： 光敏组合物和使用其的图案形成方法
-
申请号： US11373188申请日： 2006-03-13
-
公开(公告)号： US20060210919A1公开(公告)日： 2006-09-21
- 发明人: Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
- 申请人： Kazuyoshi Mizutani , Yasutomo Kawanishi
- 专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 当前专利权人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
- 优先权： JPP.2005-075494 20050316
- 主分类号： G03C1/76
- IPC分类号： G03C1/76
摘要：
A photosensitive composition comprises (A) a specific compound, which is excellent in sensitivity, resolution, and defocus latitude (DOF), and a pattern-forming method using the photosensitive composition is provided.
公开/授权文献
信息查询
