发明申请
- 专利标题： Method of calibrating a lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 校准光刻设备的方法和器件制造方法
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申请号： US11223209申请日： 2005-09-12
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公开(公告)号： US20070058152A1公开(公告)日： 2007-03-15
- 发明人: Koen Jacobus Zaal , Antonius De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Pen
- 申请人： Koen Jacobus Zaal , Antonius De Kort , Frederik Eduard De Jong , Koen Goorman , Boris Menchtchikov , Hermen Pen
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/32
- IPC分类号： G03B27/32
摘要：
In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to wafer cooling.
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