公开(公告)号：US20070052940A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11516050

申请日：2006-09-06

申请人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

发明人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7045 ,  G03F7/70458

摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using, for example, normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to substrate cooling.

摘要翻译： 在浸没式光刻设备的叠加性能的校准中，使用例如正常和反向蜿蜒进行的曝光获得两组覆盖数据。 然后可以使用两个数据集来消除由于衬底冷却引起的影响。

公开(公告)号：US20070058152A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11223209

申请日：2005-09-12

申请人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik Eduard De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

发明人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik Eduard De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to wafer cooling.

摘要翻译： 在浸没光刻设备的叠加性能的校准中，从使用正反转的蜿蜒的曝光获得两组覆盖数据。 然后可以使用两个数据集来消除由于晶片冷却引起的影响。

公开(公告)号：US20070203873A1

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：US11353231

申请日：2006-02-14

申请人： Andre Jeunink ,  Antonius De Kort

发明人： Andre Jeunink ,  Antonius De Kort

IPC分类号： G06F17/30

CPC分类号： G03F7/70508

摘要： The present invention relates to the activation of a software upgrade in a lithographic apparatus that transfers a pattern onto a substrate. The time and date of the activation of a software upgrade is compared with the time and date of the exposure of the first layer of a substrate or of a “lot” of substrates. If the activation date and time is later than the first exposure date and time, software-functionality types is not mixed on a single lot or substrate and the old software-functionality is used for that lot or substrate. If, on the other hand, the activation date and time of the software-functionality update is earlier than the first exposure of the lot or substrate, the lot or substrate has not yet been affected by the old software-functionality and the new, updated software-functionality may be used to control the pattern transfer onto all of the substrate layers.

摘要翻译： 本发明涉及在将图案传送到基板上的光刻设备中的软件升级的激活。 将软件升级的激活的时间和日期与基板的第一层或“批次”的基板的曝光的时间和日期进行比较。 如果激活日期和时间晚于第一个曝光日期和时间，则软件功能类型不会在单个批次或基板上混合，并且旧的软件功能用于该批次或基板。 另一方面，如果软件功能更新的激活日期和时间早于批次或基板的首次曝光，则批次或底板尚未受旧软件功能的影响，新的更新 可以使用软件功能来控制图案转移到所有的基底层上。