公开(公告)号：US20070058152A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11223209

申请日：2005-09-12

申请人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik Eduard De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

发明人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik Eduard De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to wafer cooling.

摘要翻译： 在浸没光刻设备的叠加性能的校准中，从使用正反转的蜿蜒的曝光获得两组覆盖数据。 然后可以使用两个数据集来消除由于晶片冷却引起的影响。

公开(公告)号：US20070052940A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11516050

申请日：2006-09-06

申请人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

发明人： Koen Jacobus Zaal ,  Antonius De Kort ,  Frederik De Jong ,  Koen Goorman ,  Boris Menchtchikov ,  Hermen Pen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7045 ,  G03F7/70458

摘要： In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using, for example, normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to substrate cooling.

摘要翻译： 在浸没式光刻设备的叠加性能的校准中，使用例如正常和反向蜿蜒进行的曝光获得两组覆盖数据。 然后可以使用两个数据集来消除由于衬底冷却引起的影响。