发明申请
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US11436057申请日： 2006-05-18
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公开(公告)号： US20070268466A1公开(公告)日： 2007-11-22
- 发明人: Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov
- 申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
An immersion lithographic apparatus is disclosed in which a gas knife is shaped and a liquid removal device is positioned to improve removal of liquid from the surface of the substrate.
公开/授权文献
- US08144305B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2012-03-27
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