发明申请
- 专利标题： Exposure apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 曝光装置和装置制造方法
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申请号： US12007240申请日： 2008-01-08
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公开(公告)号： US20080137047A1公开(公告)日： 2008-06-12
- 发明人: Takeyuki Mizutani , Masahiko Okumura , Hirotaka Kohno
- 申请人： Takeyuki Mizutani , Masahiko Okumura , Hirotaka Kohno
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： NIKON CORPORATION
- 当前专利权人： NIKON CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2005-201582 20050711
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
An exposure apparatus is provided with a first stage and a second stage. A maintenance apparatus carries out maintenance on the second stage during exposure processing of a wafer held on the first stage.