发明申请
US20090041950A1 METHOD AND SYSTEM FOR IMPROVING SIDEWALL COVERAGE IN A DEPOSITION SYSTEM
有权
用于改善沉积系统中的边界覆盖的方法和系统
- 专利标题： METHOD AND SYSTEM FOR IMPROVING SIDEWALL COVERAGE IN A DEPOSITION SYSTEM
- 专利标题（中）： 用于改善沉积系统中的边界覆盖的方法和系统
-
申请号： US11835210申请日： 2007-08-07
-
公开(公告)号： US20090041950A1公开(公告)日： 2009-02-12
- 发明人: SHIGERU MIZUNO , TAKASHI SAKUMA , YASUSHI MIZUSAWA
- 申请人： SHIGERU MIZUNO , TAKASHI SAKUMA , YASUSHI MIZUSAWA
- 申请人地址： JP TOKYO
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人地址： JP TOKYO
- 主分类号： H05H1/24
- IPC分类号： H05H1/24 ; C23C16/00
摘要：
Embodiments of a method and system for improving the consistency of a layer or a plurality of layers with a desired profile in a deposition system are generally described herein. Other embodiments may be described and claimed.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
