发明申请
- 专利标题： LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题（中）： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
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申请号： US12942237申请日： 2010-11-09
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公开(公告)号： US20110051107A1公开(公告)日： 2011-03-03
- 发明人: Stefan Philip Christiaan BELFROID , Nicolaas Ten Kate , Nicolaas Rudolf Kemper , Johannes Petrus Maria Smeulers , Arno Willem Frederik Volker , Rene Breeuwer
- 申请人： Stefan Philip Christiaan BELFROID , Nicolaas Ten Kate , Nicolaas Rudolf Kemper , Johannes Petrus Maria Smeulers , Arno Willem Frederik Volker , Rene Breeuwer
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人： ASML NETHERLANDS B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
In an immersion lithography apparatus, ultrasonic waves are used to atomize liquid on a surface of the substrate.
公开/授权文献
- US2110672A Electric circuit interrupter 公开/授权日：1938-03-08
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