发明授权
- 专利标题： Method for producing a thin film resistor
- 专利标题（中）： 薄膜电阻的制造方法
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申请号： US570743申请日： 1984-01-16
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公开(公告)号： US4530852A公开(公告)日： 1985-07-23
- 发明人: Hermann Birnbreier , Helmut Haas
- 申请人： Hermann Birnbreier , Helmut Haas
- 申请人地址： DEX Mannheim-Kafertal
- 专利权人： Brown, Boveri & CIE AG
- 当前专利权人： Brown, Boveri & CIE AG
- 当前专利权人地址： DEX Mannheim-Kafertal
- 优先权： DEX3301665 19830120
- 主分类号： H01C7/00
- IPC分类号： H01C7/00 ; H01C17/02 ; H01C17/06 ; H01C17/08 ; H01C17/12 ; H01C17/26 ; B05D5/12
摘要：
Method for producing a thin film resistor by vapor deposition or cathode sputtering techniques, wherein part of the resistance area of the film is covered by an electrically insulating layer which prevents oxygen diffusion onto the resistance material and causes a decrease of the resistance during aging, while the rest of the resistance area remains free.
公开/授权文献
- US4045661A Apparatus for detecting and processing errors 公开/授权日：1977-08-30
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