发明授权
- 专利标题： Organosilicon compound and use thereof in photolithography
- 专利标题（中）： 有机硅化合物及其在光刻中的应用
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申请号： US567305申请日： 1983-12-30
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公开(公告)号： US4603195A公开(公告)日： 1986-07-29
- 发明人: Edward D. Babich , Michael Hatzakis , Jurij R. Paraszczak , Jane M. Shaw
- 申请人： Edward D. Babich , Michael Hatzakis , Jurij R. Paraszczak , Jane M. Shaw
- 申请人地址： NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： NY Armonk
- 主分类号： G03C1/72
- IPC分类号： G03C1/72 ; G03F7/004 ; G03F7/023 ; G03F7/038 ; G03F7/075 ; H01L21/027 ; G03C1/52 ; C07C113/00 ; C08G77/40
摘要：
A composition obtained by interracting a quinone diazo compound and an organosilicon compound; and use thereof in lithography.
公开/授权文献
- US5698122A Dual switch for semi automatic welding gun 公开/授权日：1997-12-16
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